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半導體設備

核心組件

技術支持

柵網

發布日期:2022/6/30 0:00:00

產品介紹

離子源是采用離子技術輔助鍍膜、刻蝕等高端設備的重要部件,其中柵網是離子源中直接影響均勻性和致密性的重要易耗性配件,它決定了帶電離子的密度、運動方向、加速度等,直接影響相應工序的產品質量。


 產品特點

 我公司生產離子源(Ion source)柵極組件主要應用于離子刻蝕/沉積設備(IBE/IBD),柵網為三片一套的鉬柵極(Mo Grid),依次分別為Beam GridSuppressor GridGround Grid,經過專業特殊的表面加工及精密鉆孔加工。為了保證離子束的均勻性,通過精確測量和高精度數值模擬相結合,在柵網精確開孔、角度分布等方面開展技術攻關,保證了離子束的均勻性。另外為了保證產品的穩定性和耐用性,我司精選高檔進口原材料,加工中經過超高溫等獨有應力成型技術處理,經過多道拋光定型噴砂完成,經久耐用。

競爭優勢

1.高檔進口材料99.9999%以上

2.專業特殊的加工工藝及超高溫等獨有的應力成型技術處理;

3.行業資深專家團隊,品質有保障

4.優質的產品,安心的服務

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